無塵車間凈化工程對濕度的控制

　　濕度控制是生產無塵車間的重要要求，相對濕度是無塵車間和潔凈室運行中常見的環(huán)境控制條件。

　　半導體無塵車間或無塵室中的典型相對濕度目標在大約30％到50％的范圍內，從而在狹窄范圍內（例如，光刻膠）或在遠紫外線處理（DUV）中甚至更低，誤差為±1％。 ）區(qū)域，但在其他區(qū)域可以放寬到±5％。

　　近年來，當空氣處理過程保持在這些限 制范圍內時，相對濕度會導致許多因素影響潔凈室的整體性能，其中包括：1.細 菌生長； 2. 2.為員工提供合適的室溫； 3.出現靜電； 4.金屬腐蝕； 5.水蒸氣的冷凝； 6.光刻技術的退化； 7.吸水率。細 菌和其他生物污染霉菌，病 毒，真 菌和螨蟲，使其在相對濕度超過60％的環(huán)境中壯成長。當相對濕度超過30％時，某些種群會增長。當相對濕度在40％至60％的范圍內時，細 菌和呼吸道感 染的影響可以降至很低。相對濕度在40％至60％的范圍內也是人類合適的適度范圍。高濕度會使人感到悶悶不樂，而濕度低于30％會使人感到干燥，皮膚破裂，呼吸不適和情緒不適。

　　高濕度實際上會減少無塵車間和潔凈室表面上的靜電荷積聚，這是理想的結果。較低的濕度更適合電荷的積累，并成為潛在的破壞性靜電放電源。當相對濕度超過50％時，靜電荷開始迅速消散，但是當相對濕度小于30％時，它們可以在絕緣體或不接地的表面上長時間存在。

　　相對濕度在35％和40％之間是一個令人滿意的折衷方案，半導體無塵車間和潔凈室通常使用其他控件來限 制靜電荷的積累。隨著相對濕度的增加，許多化學反應（包括腐蝕過程）的速度將增加。潔凈室周圍或潔凈室周圍暴露于空氣的所有表面都至少迅速被單層水覆蓋。當這些表面由可以與水反應的薄金屬涂層組成時，高濕度會加 快反應速度。幸運的是，某些金屬（例如鋁）可以與水形成保護性氧化物并防止進一步氧化。但是另一種情況，例如氧化銅，則沒有保護作用。因此，在高濕度下，銅表面更容易受到腐蝕。

　　由此可見，無塵車間對濕度有嚴格甚至嚴苛的要求，而除 濕 機在濕度控制上已經很好地解決了這個問題。除 濕 機可以從根本上解決無塵車間對溫度和濕度的嚴格要求。